LEF100 鐳射系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑，應用于內外層線路制作，特別適用于265nm和405nm激光直接成像系統。
特色及優點
高解析度 -1-2 mil 線寬/線距
曝光速度快
附著力好
抗化學性好
性能穩定
項目
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單位
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LEF112
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LEF115
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備注
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厚度
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μm
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30
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38
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感度*1
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mj/cm2
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16
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24
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最短顯影時間
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sec.
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20
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22
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附著力*1*2(L/S=X/250)
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μm
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30
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40
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解析度*1*2（L/S=X/X）
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μm
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25
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30
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蓋孔孔徑
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μm
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//
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6.0
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*1:LEF115(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺，推薦硬化格數的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光機制作（UVE-HSP5K-11）
*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短顯影時間x2
*3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。
